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電阻法鍍(du)鋁膜(mo)厚度測量儀-推薦
真空(kong)鍍(du)(du)主(zhu)要包括真空(kong)蒸(zheng)鍍(du)(du)、濺射鍍(du)(du)和(he)離子(zi)鍍幾種(zhong)(zhong)類型,它們都是(shi)采(cai)用(yong)在真空條(tiao)件(jian)下,通過蒸餾(liu)或濺射(she)等方式(shi)在塑件(jian)表面沉積各種(zhong)(zhong)金(jin)屬和非(fei)金(jin)屬薄(bo)(bo)膜,通過這樣的(de)方式(shi)可以(yi)得到非(fei)常(chang)薄(bo)(bo)的(de)表面鍍層,同時(shi)具(ju)有(you)速度(du)快(kuai)附著力好的(de)突出優點。
由于真空鍍(du)鋁薄膜(mo)上(shang)的(de)鍍(du)鋁層非常薄,因此不能用常規的(de)測厚儀(yi)器檢測其厚度(du)。由包裝產(chan)品(pin)質(zhi)量監(jian)督(du)檢驗中心(濟南)和濟南三(san)泉中石起(qi)草的《 GB/T 15717-2001真空金(jin)屬(shu)鍍層厚度測試方(fang)法--電阻法》于2021年頒(ban)布,詳(xiang)細介紹了如何(he)檢(jian)測絕緣軟(ruan)基材表(biao)面的真空金屬鍍層厚(hou)度(du)的測試方(fang)法。
電阻(zu)法檢(jian)測鍍鋁層的厚度(du)用(yong)表面(mian)電阻(zu)來表示,單(dan)位是Ω/□,數值(zhi)越(yue)大(da)說明鍍鋁層厚(hou)度越(yue)薄(bo),一般真空鍍鋁薄(bo)膜的表面電(dian)阻(zu)值(zhi)為1.0-2.5Ω/□。其試驗原理:試樣(yang)金(jin)屬(shu)鍍(du)層(ceng)(ceng)為一段(duan)金(jin)屬(shu)導體,依據歐姆(mu)定律測(ce)量規定長度和寬度試樣(yang)的(de)金(jin)屬(shu)鍍(du)層(ceng)(ceng)電(dian)(dian)阻值,以方(fang)塊(kuai)電(dian)(dian)阻表示金(jin)屬(shu)鍍(du)層(ceng)(ceng)的(de)厚度或直(zhi)接計算(suan)其厚度。標準(zhun)中對真空金(jin)屬(shu)鍍(du)層(ceng)(ceng)厚度測(ce)量裝置也進行了明(ming)確(que)規定,要求電(dian)(dian)阻測(ce)量誤差不(bu)大于士1%, 裝置的測量寬度不小于100m m,兩測量頭間(jian)的距離精度為±0.10mm。
為此濟南三泉中石實驗(yan)儀器有(you)限公司研(yan)發了DMT-E金屬鍍層(ceng)測厚儀,依據《GB/T 15717-1995 真空金屬鍍(du)層厚度測(ce)試方法--電阻法》制造而(er)成,采(cai)用高精度接觸式測量,具備溫度(du)補(bu)償功能,數(shu)據(ju)實時顯示、自動統計(ji),配備的微型打印機可快(kuai)速打印出(chu)結果顯示方塊(kuai)電阻值、厚度值、均勻度等(deng)相關數(shu)據。
滿足(zu)各大(da)企(qi)業(ye)、質(zhi)監所及相關檢測(ce)(ce)機構對絕(jue)緣軟(ruan)基材(cai)表面(mian)的真空金屬鍍(du)層厚度測(ce)(ce)量的需(xu)求(qiu)。為包(bao)裝行業(ye)檢測(ce)(ce)產品質(zhi)量提(ti)供有力技術支持,也是(shi)目前國內實驗儀器行業(ye)的一(yi)大(da)跨(kua)越。
技術參數(shu)
厚度測量范圍 厚度(du)50-570?
方(fang)塊電阻測量范圍(wei) 0.5-5Ω
方塊電阻測量誤(wu)差 ±1%
樣品(pin)尺寸 100×100mm
夾樣精度 ±0.1mm
測溫范圍 0~50℃,精度±1℃
外形尺寸 370mm×330mm×450mm (長寬高(gao))
重 量 19kg
工作溫度 23℃±2℃
相對(dui)濕(shi)度 80%,無凝露
工作電源 220V 50Hz
電阻法鍍鋁(lv)膜厚度測量儀-推薦