方歐電(dian)阻(zu)測厚(hou)儀|真空鍍鋁膜鍍層(ceng)厚(hou)度測試儀 DMT-E

真(zhen)空蒸(zheng)鍍金屬薄(bo)膜(mo)(mo)是在(zai)真(zhen)空條(tiao)件(jian)下(xia)，將金屬蒸(zheng)鍍在(zai)薄(bo)膜(mo)(mo)基材(cai)的(de)表面而形成復(fu)合(he)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)一(yi)種(zhong)新(xin)工藝。被鍍金屬材(cai)料可以(yi)是金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等，其中用的(de)zui多的(de)是鋁。

由于(yu)真(zhen)空鍍(du)鋁(lv)薄膜上的(de)(de)鍍(du)鋁(lv)層(ceng)非常薄，因此不能(neng)用常規的(de)(de)測厚(hou)儀器檢測其厚(hou)度。由國家包裝(zhuang)產品質量監督檢驗(yan)中心（濟南）起草的《 GB/T 15717-1995真空金屬(shu)鍍層厚度測試方法--電阻(zu)法》于1996年頒布，詳細介紹了如(ru)何(he)檢測絕緣軟基材(cai)表面的真空金屬鍍(du)層厚度(du)的測試方法(fa)。電(dian)阻法檢測鍍(du)(du)鋁層(ceng)(ceng)的(de)厚度用表面電(dian)阻來表示，單位是Ω/□，數值越大說明(ming)鍍(du)(du)鋁層(ceng)(ceng)厚度越薄，一般真空鍍(du)(du)鋁薄膜的(de)表面電(dian)阻值為1.0－2.5Ω/□。

方(fang)歐(ou)電阻(zu)測厚(hou)儀(yi)(yi)|真空(kong)鍍鋁(lv)膜鍍層厚(hou)度測試儀(yi)(yi) 技術特征

微電(dian)腦控制(zhi)、大液(ye)晶顯示

高精度接觸式測量

溫度補(bu)償功能

數(shu)據(ju)實(shi)時顯(xian)示(shi)、自(zi)動統計

打(da)印方塊電阻值、厚度(du)值、均勻(yun)度(du)

微型打印(yin)機(ji)快速輸(shu)出數據，實(shi)時輸(shu)出結果

技(ji)術(shu)參數   

1. 厚(hou)度(du)測量(liang)范圍：厚度50-2000Å （0.005-0.2µm）

2. 測量(liang)尺(chi)寸：100X100mm

3. 距離精度：±0.1mm

4. 測量(liang)鍍層(ceng)金屬種類：鋁、銅(tong)、銀等(deng)各種導電金屬

5. 電阻測(ce)量誤差：±1%

6. 溫度(du)范圍：0～50℃，精度(du)±1℃

7. 外形尺(chi)寸：370mm×320mm×420mm

8. 重(zhong)    量：8kg             

更多詳情，請咨詢濟南三泉中石實驗儀器有限公司業務部，
：，， :（王(wang)海燕）